蒸着

種類：

PVD物理蒸着：真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング

CVD化学蒸着：プラズマ

＜各種蒸着法＞

□真空蒸着

物理蒸着の一種。真空中で成膜材料を加熱蒸発させ、ワークの表面に薄膜を付着させる。低温環境で処理できるため広く普及している。

自動車部品では、ヘッドライト内のプラスチック製リフレクターやプラスチック成形品の加飾などに使用される。ワークはプラスチック、ガラス、セラミックス、金属などいろいろな材料に対応できる。

蒸着金属はアルミニウム、クロム、金、銀、銅など。膜厚は極薄だが、均一の厚みをもつ。被膜の耐久性や外観向上のために、アンダーコートとトップコートを施すことが多い。処理方法は、真空蒸着機の釣鐘状のフックにワークを入れてぶら下げ空気を抜き真空にする。その後、蒸着材料を高温加熱し蒸気を発生させ、ワークに付着させる。小物の大量生産品に適する。

□PVD（Physical Vapor Deposition）

物理蒸着とも呼ばれる成膜法。真空中で成膜材料を加熱・蒸発させ、ワークの表面に薄膜を付着させる。

真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングの3つの方式があるが、いずれも高真空下で行う。

切削工具や金型などで使用する超硬質被膜は、チタンTi系硬質膜（TiN）やクロムCr系硬質膜（CrN）、カーボン系DLC（Diamond Like Carbon）などが使用される。配合は各社各様で種類が多く、選定が難しい。装飾用の蒸着金属はアルミニウム、金、銀、銅などが蒸着できる。

□CVD（Chemical Vapor Deposition）

化学蒸着とも呼ばれる成膜法。処理方法はPVDが薄膜材料を直接気化して薄膜化するのに対して、CVDは薄膜構成原子を含む化合物ガスを原料として化学反応を利用して薄膜を付着させる。

切削工具や金型などで使用する超硬質被膜で使用する。PVD同様に、チタンTi系硬質膜（TiN）やクロムCr系硬質膜（CrN）、カーボン系DLC（Diamond Like Carbon）などが蒸着できる。

プラスマCVD、光CVD、熱式CVDと３つの方式がある。

プラズマCVDと光CVDは300℃とPVDよりやや低温で高真空でなく低真空で行えるため装置も簡素化する。熱式CVDも400℃～500℃の高温だが大気圧で行えるため、CVD はPVDより取り扱いが容易といえる。